Retourner à l'Accueil
|
Suivre cet objet
L'objet est en rupture de stock.

Photo 1 sur 1

Manuel de la technologie de traitement des faisceaux d'ions : principes, dépôt, film... - Photo 1 sur 1
Vous en avez un à vendre?
Vendez le vôtre

Manuel de la technologie de traitement des faisceaux d'ions : principes, dépôt, film...

by Cuomo, Jerome J.; Rossnagel, Stephen... | HC | Good
État :
Bon
“Missing dust jacket; Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ”... En savoir plussur l'état
Prix :
105,08 $US
Environ143,24 $C
Expédition :
Sans frais Economy Shipping. En savoir plussur l'expédition
Lieu : Aurora, Illinois, États-Unis
Livraison :
Livraison prévue entre le ven. 7 juin et le lun. 10 juin à 43230
Le délai de livraison est estimé en utilisant notre méthode exclusive, basée sur la proximité de l'acheteur du lieu où se trouve l'objet, le service d'expédition sélectionné, l'historique d'expédition du vendeur et d'autres facteurs. Les délais de livraison peuvent varier, particulièrement lors de périodes achalandées.
Renvois :
Renvoi sous 30jours. Le vendeur paie les frais de renvoi. En savoir plus- pour en savoir plus sur les renvois
Paiements :
     

Magasinez en toute confiance

Garantie de remboursement eBay
Recevez l'objet commandé ou obtenez un remboursement. 
En savoir plusGarantie de remboursement eBay - s'ouvre dans une nouvelle fenêtre ou un nouvel onglet

Informations sur le vendeur

Inscrit comme vendeur professionnel
Signaler cet objet - s'ouvre dans une nouvelle fenêtre ou un nouvel onglet
Le vendeur assume l'entière responsabilité de cette annonce.
Numéro de l'objet eBay :375323881303

Caractéristiques de l'objet

État
Bon
Un livre qui a été lu, mais qui est en bon état. La couverture présente des dommages infimes, par exemple des éraflures, mais aucun trou ni aucune déchirure. Dans le cas des livres à reliure, la jaquette peut ne pas être incluse. La reliure présente des traces d'usure minimes. La plupart des pages ne sont pas endommagées et les plis, les déchirures, les passages soulignés ou surlignés et les inscriptions en marge sont minimes. Il n'y a aucune page manquante. Afficher toutes les définitions d'état(s'ouvre dans une nouvelle fenêtre ou un nouvel onglet)
Remarques du vendeur
“Missing dust jacket; Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ...
Binding
Hardcover
Weight
2 lbs
Product Group
Book
IsTextBook
Yes
ISBN
9780815511991
Publication Year
1989
Type
Textbook
Format
Hardcover
Language
English
Publication Name
Handbook of Ion Beam Processing Technology : Principles, Deposition, Film Modification and Synthesis
Author
Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, Harold R. Kaufman
Item Length
9in
Publisher
Elsevier Science & Technology Books
Item Width
6in
Item Weight
34.4 Oz
Number of Pages
456 Pages

À propos de ce produit

Product Information

Deals with ion beam processing for basic sputter etching of samples, sputter deposition of thin films, the synthesis of material in thin film form, and the modification of the properties of thin films.

Product Identifiers

Publisher
Elsevier Science & Technology Books
ISBN-10
081551199x
ISBN-13
9780815511991
eBay Product ID (ePID)
23038847434

Product Key Features

Author
Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, Harold R. Kaufman
Publication Name
Handbook of Ion Beam Processing Technology : Principles, Deposition, Film Modification and Synthesis
Format
Hardcover
Language
English
Publication Year
1989
Type
Textbook
Number of Pages
456 Pages

Dimensions

Item Length
9in
Item Width
6in
Item Weight
34.4 Oz

Additional Product Features

Lc Classification Number
Qc702.7.I55h36 1989
Table of Content
Perspective on Past, Present and Future Uses of Ion Beam TechnologyPart I. Ion Beam TechnologyGridded Broad-beam Ion SourcesECR Ion SourcesHall Effect Ion SourcesIonized Cluster Beam (ICB) Deposition and EpitaxyPart II. Sputtering PhenomenaQuantitative SputteringLaser-induced Fluorescence as a Tool for the Study of Ion Beam SputteringCharacterization of Atoms Desorbed from Surfaces by Ion Bombardment Using Multiphoton Ionization DetectionPart III. Film Modification and SynthesisThe Modification of Films by Ion BombardmentControl of Film Properties by Ion-assisted Deposition Using Broad Beam SourcesEtching with Directed BeamsFilm Growth Modification by Concurrent Ion Bombardment: Theory and SimulationInterface Structure and Thin Film AdhesionModification of Thin Films by Off-normal Incidence Ion BombardmentIon Beam Interactions with Polymer SurfacesTopography: Texturing EffectsMethods and Techniques of Ion Beam ProcessesIon-assisted Dielectric and Optical CoatingsDiamond and Diamond-like Thin Films by Ion Beam TechniquesIndex
Copyright Date
1989
Topic
Materials Science / General, Physics / Quantum Theory, Chemistry / Physical & Theoretical, Metallurgy, Physics / Nuclear
Lccn
88-038244
Dewey Decimal
621.381/7
Intended Audience
Scholarly & Professional
Dewey Edition
19
Illustrated
Yes
Genre
Technology & Engineering, Science

Description de l'objet du vendeur

ThriftBooks

ThriftBooks

99% d'évaluations positives
17,7M objets vendus
Visiter la BoutiqueContacter
Répond généralement en 24 heures

Évaluations détaillées du vendeur

Moyenne au cours des 12 derniers mois

Qualité de la description
4.9
Justesse des frais d'expédition
5.0
Rapidité de l'expédition
5.0
Communication
4.9

Évaluations comme vendeur (5 204 962)

8***a (539)- Évaluation laissée par l'acheteur.
Dernier mois
Achat vérifié
Very good item condition; smooth transaction; I'm pleased
Afficher toutes les évaluations

Évaluations et avis sur le produit

En savoir plus
Rédiger un avis
Aucune évaluation ni aucun avis jusqu'à maintenant.
Soyez le premier à rédiger un avis.