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Nanofabrication utilisant des faisceaux d'ions et d'électrons focalisés : principes et application

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Numéro de l'objet eBay :354342433352

Dernière mise à jour : juin 24, 2024 23:02:25 HAEAfficher toutes les modificationsAfficher toutes les modifications

Caractéristiques de l'objet

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Book Title: Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams: Principles

ISBN: 9780199734214

Subject Area: Technology & Engineering, Science

Publication Name: Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams : Principles and Applications

Publisher: Oxford University Press, Incorporated

Item Length: 7.4 in

Subject: Nanotechnology & Mems, Chemical & Biochemical, Physics / Nuclear

Publication Year: 2012

Series: Oxford Series in Nanomanufacturing Ser.

Type: Textbook

Format: Hardcover

Language: English

Item Height: 1.9 in

Author: Stanislav Moshkalev

Item Weight: 76.1 Oz

Item Width: 10.1 in

Number of Pages: 840 Pages

À propos de ce produit

Product Identifiers

Publisher

Oxford University Press, Incorporated

ISBN-10

0199734216

ISBN-13

9780199734214

eBay Product ID (ePID)

102926968

Product Key Features

Number of Pages

840 Pages

Language

English

Publication Name

Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams : Principles and Applications

Subject

Nanotechnology & Mems, Chemical & Biochemical, Physics / Nuclear

Publication Year

2012

Type

Textbook

Author

Stanislav Moshkalev

Subject Area

Technology & Engineering, Science

Series

Oxford Series in Nanomanufacturing Ser.

Format

Hardcover

Dimensions

Item Height

1.9 in

Item Weight

76.1 Oz

Item Length

7.4 in

Item Width

10.1 in

Additional Product Features

Intended Audience

Scholarly & Professional

LCCN

2011-028174

Dewey Edition

Reviews

The first part of the book includes eight chapters and occupies roughly one-third of the book, whilst the second part incorporates about 20 chapters and takes up about two-thirds of the book. Such a distribution of material ensures that the basic concepts of these technologies are thoroughly explained ... In a word, one would aver that the volume contains essentially everything one would need to gain a deep understanding of the topics and probably a little morebesides.

CLASSIFICATION_METADATA

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Number of Volumes

1 vol.

Illustrated

Yes

Dewey Decimal

620.115

Table Of Content

Introduction1-1. Historical development of electron beam induced deposition and etching: from carbon to functional materials1-2. Historical evolution of FIB technology: from circuit editing to nanoprototypingPart I1. The theory of bright field electron and field ion emission sources2. How to select compounds for focused charged particle beam assisted etching and deposition3. Gas Injection Systems for FEB and FIB Processing: Theory and Experiment4. Fundamentals of interactions of electrons with molecules5. Simulation of focused ion beam milling6. FEB and FIB continuum models for one molecule species7. Continuum modeling of electron beam induced processes8. Monte Carlo method in EBID process simulationsPart II9. Focused electron beam induced processing (FEBIP) for industrial applications10. Focused Ion Beam and DualBeamTM technology applied to nanoprototyping11. Review of FIB-tomography12. In-situ Monitoring of Gas-Assisted Focused Ion Beam and Focused Electron Beam Induced Processing13. Cluster Beam Deposition of Metal, Insulator, and Semiconductor Nanoparticles14. Electron- and ion- assisted metal deposition for the fabrication of nanodevices based on individual nanowires15. Focused ion beam fabrication of carbon nanotube and ZnO nanodevices16. Focused Ion and Electron Beam induced deposition of magnetic nanostructures17. Metal films deposited by FIB and FEB for nanofabrication and nanocontacting purposes18. FIB Etching for Photonic Device Applications19. Gas assisted FIB etching of InP for rapid-prototyping of photonic crystals20. Applications of FIB for rapid prototyping of photonic devices, fabrication of nano sieve, nanowire and nano antennas21. Focused particle beam induced deposition of silicon dioxide22. Growth and characterization of FEB-deposited suspended nanostructures23. Electrical transport properties of metallic nanowires and nanoconstrictions created with FIB24. Structure-property relationship in electronic transport on FEBID structures25. Characterization of nanostructured carbon materials using FIB26. Electron Beam Controlled Patterning of Molecular Layers: Functional Surfaces and Nanomembranes27. Nanofabrication using Electron Beam Lithography Processes

Synopsis

This book comprehensively reviews the achievements and potentials of a minimally invasive, three-dimensional, and maskless surface structuring technique operating at nanometer scale by using the interaction of focused ion and electron beams (FIB/FEB) with surfaces and injected molecules., Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams presents fundamentals of the interaction of focused ion and electron beams (FIB/FEB) with surfaces, as well as numerous applications of these techniques for nanofabrication involving different materials and devices. The book begins by describing the historical evolution of FIB and FEB systems, applied first for micro- and more recently for nanofabrication and prototyping, practical solutions available in the market for different applications, and current trends in development of tools and their integration in a fast growing field of nanofabrication and nanocharacterization. Limitations of the FIB/FEB techniques, especially important when nanoscale resolution is considered, as well as possible ways to overcome the experimental difficulties in creating new nanodevices and improving resolution of processing, are outlined. Chapters include tutorials describing fundamental aspects of the interaction of beams (FIB/FEB) with surfaces, nanostructures and adsorbed molecules; electron and ion beam chemistries; basic theory, design and configuration of equipment; simulations of processes; basic solutions for nanoprototyping. Emerging technologies as processing by cluster beams are also discussed. In addition, the book considers numerous applications of these techniques (milling, etching, deposition) for nanolithography, nanofabrication and characterization, involving different nanostructured materials and devices. Its main focus is on practical details of using focused ion and electron beams with gas assistance (deposition and etching) and without gas assistance (milling/cutting) for fabrication of devices from the fields of nanoelectronics, nanophotonics, nanomagnetics, functionalized scanning probe tips, nanosensors and other types of NEMS (nanoelectromechanical systems). Special attention is given to strategies designed to overcome limitations of the techniques (e.g., due to damaging produced by energetic ions interacting with matter), particularly those involving multi-step processes and multi-layer materials. Through its thorough demonstration of fundamental concepts and its presentation of a wide range of technologies developed for specific applications, this volume is ideal for researches from many different disciplines, as well as engineers and professors in nanotechnology and nanoscience.

LC Classification Number

TA418.9.N35N2525

2011

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Description de l'objet du vendeur

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